产品信息

NLD-3500用于TALD，NLD-4000支援TALD和PEALD应用，N2替代NH3的氮化物薄膜沉积的工艺技术。

特点：

  · 占地面积小，仅28”×44”或28”×26”

  · 电脑控制, LabVIEW软体,全自动工艺控制

  · 360Å厚的Al2O3膜，误差为±1Å

  · 三维镀膜，接近100%的阶梯覆盖率

  · 设备集成安全气柜

  · 10-7Torr级别的极限真空

  · 可支援8”基片（可升级支援12”）

  · 样品台可加热至400℃（可选加到500℃）

  · 下游式ICP等离子源

  · 手动/自动上下载片可选

  · 380 l/sec的磁悬浮涡流分子泵可选

  · 支持多达7路的50ml前驱体压力容器