产品信息

NANO-MASTER研发并制造了台式等离子体辅助的PA-MOCVD系统，用于InGaN和AlGaN等氮化物生长工艺。

系统含5个起泡器（带独立冷却槽），加热气体管路，950℃样品台，三个气体环，淋浴头气体分布的RF等离子源，以及工艺终点时N2冲洗。

配套260l/sec的涡流分子泵及干泵（5×10-7Torr极限真空），配套

Labview软体和触控式萤幕PC电脑，可实现全自动工艺控制，具有高度的可重复性。完全的安全联锁，并且带四级密码授权访问功能。

在等离子辅助下可以实现在更低的工艺温度（700℃）下沉积GaN，InN，InGaN，及AlGaN膜。

目前可支援6”晶片，也可整合到集群配置中，来满足高生产量的需求。

NMC-3000台式系统：

  · 应用：绿光LED’s(GaN，InN，InGaN，AlGaN)

  · 950℃样品台，2”晶圆片

  · 5×10-7Torr极限真空

  · 5个起泡器：支持In，Ga，Al和2个掺杂物质的前驱体

  · 基于LabVIEW软体的电脑控制

  · 功能表驱动，四级密码授权访问保护，完全的安全联锁

NMC-4000独立式系统：

  · 应用：绿光LED’s(GaN，InN，InGaN，AlGaN)

  · 14.5”不锈钢立方腔体

  · 在8”样品台上处理1个6”晶圆片或在12”样品台上处理5个4”晶圆片

  · RF等离子源，配套自动调谐器

  · 950℃旋转样品台

  · 手动或自动上下载片

  · 可相容集群系统