产品信息

NRE-4000是独立式RIE系统，淋浴头气体分布和水冷RF样品台，不锈钢立柜及圆柱形铝腔，铝腔支持一键式气动升降顶盖，便于放取片。腔体有两个埠：一个2”的观察视窗，另一个预留作为诊断。

系统可支援到16”晶圆片，根据配套的真空泵可以达到10-6Torr或者更低的极限真空，可在20mTorr至8Torr的压力范围内正常工作。真空系统包含节流阀/涡流分子泵/筛检程式/机械泵。

600W, 13.5MHz RF电源，配套自动调谐器。系统对DC偏压连续监控，该数值可高达-500V，这对各向异性刻蚀非常重要。

通过PC全自动控制，真空和DC偏压即时图显，流量、功率等工艺参数则即时数现。

系统提供四级密码访问保护功能：操作级/工程师级/工艺级/维修级。系统允许半自动/全自动模式运行。

配置ICP源和背氦冷却样品台等方案，系统可以提供RIE-ICP刻蚀和DRIE刻蚀。

特点：

  · 铝/不锈刚腔体

  · 占地面积小，铝/不锈钢立柜

  · 8”阳极氧化铝化RF样品台(可升级到16”)

  · 水冷/加热RF样品台，高自偏压

  · 淋浴头气体分布，气动升降顶盖

  · 20min以内压力降至10-6Torr，极限真空5×10-7Torr

  · 涡轮分子泵+机械泵（冷泵可选）

  · 最多可支援10个MFC

  · 无挠曲的不锈钢气体管路

  · 通过PC自动控制涡轮速度，实现腔体压力的全自动控制

  · 双刻蚀能力支援：RIE和等离子刻蚀（可选）

  · 终点监测（可选）

  · 手动放片（自动上下片可选，单片或25片Cassette）

  · 触控式萤幕，LabVIEW软体，全自动的工艺控制，重复性高

  · 功能表驱动，四级密码授权访问保护

  · 完全安全联锁

  · 配置NM独家的带淋浴头气体分布的平面ICP源，可升级为ICP-RIE系统

  · 可选择ICP源和样品台的低温冷却样品台，用于深矽刻蚀蚀，可以相容NM深冷刻蚀工艺和Bosch工艺

产品型号：

  · NRE-4000独立式RIE或ICP系统

  · NRE-3500独立式紧凑型系统

  · NRE-3000台式系统

  · NRP-4000 RIE / PECVD双系统

  · NSR-4000 RIE / Sputter双系统

  · NDR-4000深矽刻蚀系统